光刻胶 Photoresist
（重定向自Negative resist）
光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。
Negative resist
中文百科
英语百科
Photoresist 光刻胶
（重定向自Negative resist）
A photoresist is a light-sensitive material used in several industrial processes, such as photolithography and photoengraving, to form a patterned coating on a surface.
- tetraethylammonium,TEA的意思
- tetraethyl的意思
- tetraethylbenzene的意思
- tetraethyl compound的意思
- tetraethyldiaminobenzophenone的意思
- tetraethyldiaminodiphenylmethane的意思
- tetraethyldiaminotriphenylcarbinol的意思
- tetraethyldiarsine的意思
- Tetraethyl dithiopyrophosphate的意思
- Tetraethylene glycol的意思
- tetraethyleneglycol的意思
- tetraethylene glycol diacrylate的意思
- tetraethylene glycol dicaprylate的意思
- tetraethylene glycol diethyl ether的意思
- tetraethylene glycol dimethacrylate的意思
- tetraethylene glycol dimethyl acrylate的意思
- tetraethyleneglycol dimethyl ether的意思
- Tetraethylene glycol dimethyl ether的意思
- tetraethylene glycol distearate的意思
- tetraethylene glycol monostearate的意思
- tetraethylene pentamine的意思
- tetraethylenepentamine的意思
- tetraethyl ethanetetracarboxylate的意思
- tetraethylethylenediamine的意思
- tetraethyl gas的意思